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档案
[電機工程研究所] 期刊論文
1997
CHF3+BCl3 reactive ion etching in AlGaAs/GaAs heterostructures
Lai,LS
;
Chan,YJ
;
Kao,HC
[電機工程研究所] 期刊論文
2003
Effect of substrate biasing on Si/SiGe heterostructure MOSFETs for low-power circuit applications
Li,PW
;
Liao,WM
;
Shih,CC
;
Kuo,TS
;
Lai,LS
;
Tseng,YT
;
Tsai,MJ
[物理研究所] 期刊論文
2003
Effects of spacer thickness on optical properties of stacked Ge/Si quantum dots grown by chemical vapor deposition
Chang,WH
;
Chen,WY
;
Chou,AT
;
Hsu,TM
;
Chen,PS
;
Pei,ZW
;
Lai,LS
[電機工程研究所] 期刊論文
2003
High performance Si/SiGe heterostructure MOSFETs for low power analog circuit applications
Li,PW
;
Liao,WM
;
Shih,CC
;
Kuo,TS
;
Lai,LS
;
Tseng,YT
;
Tsai,MJ
[電機工程研究所] 期刊論文
1999
InAlGaAs fully quaternary doped-channel FETs recessed by CHF3+BCl3 reactive ion etching
Lai,LS
;
Kao,HC
;
Chan,YJ
[物理研究所] 期刊論文
2004
Optical properties of stacked Ge/Si quantum dots with different spacer thickness grown by chemical vapor deposition
Chen,WY
;
Chang,WH
;
Chou,AT
;
Hsu,TM
;
Chen,PS
;
Pei,ZW
;
Lai,LS
[環境工程研究所 ] 期刊論文
1997
Reduced impact ionization by using In-0.53(AlxGa1-x)(0.47)As (x=0.1,0.2) channel in InP HEMTs
Lai,LS
;
Chan,YJ
;
Pan,JW
;
Sheih,JL
;
Chyi,JI
[物理研究所] 期刊論文
2004
Room temperature 1.3 and 1.5 mu m electroluminescence from Si/Ge quantum dots (QDs)/Si multi-layers
Pei,Z
;
Chen,PS
;
Lee,SW
;
Lai,LS
;
Lu,SC
;
Tsai,MJ
;
Chang,WH
;
Chen,WY
;
Chou,AT
;
Hsu,TM
[物理研究所] 期刊論文
2003
Room-temperature electroluminescence at 1.3 and 1.5 mu m from Ge/Si self-assembled quantum dots
Chang,WH
;
Chou,AT
;
Chen,WY
;
Chang,HS
;
Hsu,TM
;
Pei,Z
;
Chen,PS
;
Lee,SW
;
Lai,LS
;
Lu,SC
;
Tsai,MJ
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