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    類別 日期 題名 作者 檔案
    [化學工程與材料工程研究所] 期刊論文 2004 Effect of fluoroalkyl substituents on the reactions of alkylchlorosilanes with mold surfaces for nanoimprint lithography Chen,JK; Ko,FH; Hsieh,KF; Chou,CT; Chang,FC
    [化學工程與材料工程研究所] 期刊論文 2004 Fabrication of curved structures with electron-beam and surface structure characterization Chen,JK; Ko,FH; Chen,HK; Chou,CT; Chen,HL; Chang,FC
    [化學工程與材料工程研究所] 期刊論文 2000 The effect of polymer modification on microwave digestion efficiency, thermal stability and plasma etching resistance for the photoresist Ko,FH; Lu,JK; Chu,TC; Chou,CT; Hsiao,LT; Lin,HC
    [化學工程與材料工程學系 ] 期刊論文 2010 Fabrication and enhanced field emission properties of novel silicon nanostructures Ravipati,S; Kuo,CJ; Shieh,J; Chou,CT; Ko,FH
    [光電科學與工程學系] 期刊論文 2003 Fabry-Perot structures for attenuated phase-shifting mask application in ArF and F-2 lithography Chen,HL; Wu,HS; Lee,CC; Ko,FH; Fan,W; Hsieh,CI
    [光電科學與工程學系] 期刊論文 2003 Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F-2 excimer laser lithographies Chen,HL; Lee,CC; Chuang,YF; Liu,MC; Hsieh,CI; Ko,FH
    [光電科學與工程學系] 期刊論文 2003 Low alkaline contamination bottom antireflective coatings for both 193-and 157-nm lithography applications Chen,HL; Chuang,YF; Lee,CC; Hsieh,CI; Ko,FH; Wang,LA
    [薄膜技術研究中心] 期刊論文 2002 Low alkaline contamination bilayer bottom antireflective coatings in F-2 excimer laser lithography Chen,HL; Chuang,YF; Lee,CC; Ko,FH; Hsieh,CI; Huang,TY

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