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[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文
2000
The effect of polymer modification on microwave digestion efficiency, thermal stability and plasma etching resistance for the photoresist
Ko,FH
;
Lu,JK
;
Chu,TC
;
Chou,CT
;
Hsiao,LT
;
Lin,HC
[光電科學與工程學系] 期刊論文
2003
Low alkaline contamination bottom antireflective coatings for both 193-and 157-nm lithography applications
Chen,HL
;
Chuang,YF
;
Lee,CC
;
Hsieh,CI
;
Ko,FH
;
Wang,LA
[薄膜技術研究中心] 期刊論文
2002
Low alkaline contamination bilayer bottom antireflective coatings in F-2 excimer laser lithography
Chen,HL
;
Chuang,YF
;
Lee,CC
;
Ko,FH
;
Hsieh,CI
;
Huang,TY
[光電科學與工程學系] 期刊論文
2003
Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F-2 excimer laser lithographies
Chen,HL
;
Lee,CC
;
Chuang,YF
;
Liu,MC
;
Hsieh,CI
;
Ko,FH
[光電科學與工程學系] 期刊論文
2003
Fabry-Perot structures for attenuated phase-shifting mask application in ArF and F-2 lithography
Chen,HL
;
Wu,HS
;
Lee,CC
;
Ko,FH
;
Fan,W
;
Hsieh,CI
[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文
2004
Fabrication of curved structures with electron-beam and surface structure characterization
Chen,JK
;
Ko,FH
;
Chen,HK
;
Chou,CT
;
Chen,HL
;
Chang,FC
[化學工程與材料工程學系 ] 期刊論文
2010
Fabrication and enhanced field emission properties of novel silicon nanostructures
Ravipati,S
;
Kuo,CJ
;
Shieh,J
;
Chou,CT
;
Ko,FH
[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文
2004
Effect of fluoroalkyl substituents on the reactions of alkylchlorosilanes with mold surfaces for nanoimprint lithography
Chen,JK
;
Ko,FH
;
Hsieh,KF
;
Chou,CT
;
Chang,FC
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